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OC废气处理设备从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
作为大气污染的重要来源，工业废气的高校治理尤为重要。由于生产的工艺不同，工业废气产生的污染物种类也不同，不同污染物种类应采用不同的处理工艺。目前，市场上常见的工业废气治理技术主要有：干法脱硫、湿法脱硫、物理/化学吸收法、烟气脱硝、稀释法、碱液中和法等等, 由于使用不同的吸收剂可获得不同的副产物而加以利用，因此湿法脱硫是各国研究多的方法。由于工业废气的成分越来越复杂，单一的废气处理技术方法很难达到理想的处理效果。业内人士认为，综合两种或两种以上处理技术，以及占地空间小、处理效率高的设备将受到市场关注。 资料显示，治理恶臭废气的核心技术是静电等离子废气治理技术，辅助技术是酸碱洗涤技术和生物膜过滤技术。静电等离子技术是静电技术与等离子技术的完美结合的复合技术，将静电技术的吸附和凝聚特性与等离子技术的荷电和裂解特性有机组合，形成了静电等离子技术的四大技术优势：荷电、裂解、吸附和凝聚，而废气的净化就是这四种特性共同作用完成的。
光氧废气处理设备气体分子被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。 光氧废气处理设备 特点：① 采用单级或多级串联洗涤，对污染物去除彻底，去除效率高。② 处理高浓度恶臭废气具有明显优势，运行稳定。③ 具有启动速度快、可间歇运行、耐冲击负荷强、受温度影响小、运行稳定等特点。④ 自动化程度高，占地面积小,化学洗涤除臭设备适用于污水处理厂、制药厂、化工厂等具有碱性或酸性且浓度比较高的尾气治理。活性炭除臭设备采取切线出风、环状过滤、中间进风、上不加料、下部卸料的结构，克服了传统的活性炭过滤器过滤阻力大、面积小、占地面积大、设备投资高、更换活性炭困难等缺陷，使活性炭过滤设备结构设计近乎于完美。
