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光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
催化燃烧废气处理设备系统特点： 1、催化燃烧采用RCO工艺净化有机废气，可同时去除多种有机污染物，具有工艺简单、设备紧凑、运行可靠等优点； 2、催化燃烧设备具有净化率高，一般均可达95%以上； 3、催化燃烧设备具有运行费用低的优点，其热回收率一般可达95%以上； 4、整个过程无废水产生，净化过程不产生二次污染； 5、催化燃烧RCO净化设备可与烘箱配套使用，净化后的气体直接回用到烘箱加热设备，达到节能减排的目的； 6、催化燃烧设有5道装置，杜绝事故发生； 7、催化燃烧蓄热系统采用加热系统分段工作，自动跟踪温度并内置蓄热装置，节能省电；
